新製品開発
嘉晶電子は エピタキシャルシリコンウェハー及び埋め込み層付エピーなどの製品を川下の応用範囲に拡大し続けると共に現在、取引先及び研究機構と契約して、 SiGe 　エピタキシャル技術の 共同研究開発 を進めております。これらは高周波通信素子やパワー電力素子として活用される事を期待しております 。

技術開発
嘉晶電子は多くのエピ関連技術を研究開発し、多数の特許も獲得しております。
今後も台湾国内の研究機構とエピタキシャル生産設備の共同開発について提携を持続し、我が国の材料科学技術の実用化に貢献していきます。

世界最大のシリコンエピタキシャルウエハー専門会社を目指します
嘉晶電子が生産しているエピタキシャルシリコンウェハーは半導体の基本材料です、半導体産業の製造プロセス技術が微細化、製品の多様化に従い、エピタキシャルシリコンウェハーの需要は急速に伸展しました。嘉晶電子は真心を持って仕事に取り組み、グローバルな配置で、販売ルートを拡大して、製品の品質とタイムリーなサービスでお客様と末長い協力関係を確立して、世界最大のエピタキシャルシリコンウエハー専門会社になることを目指しております。　

台湾国内エピタキシャル技術の掘り下げ
嘉晶電子は設立以来、積極的に専門技術者を招聘して育成訓練、革新的な研究開発を奨励、又間断なく投資して生産設備を導入し、市場製品の動向を把握して、生産技術のレベルアップを推進しております。
現在、すでにエピタキシャルに関する多くの技術を研究開発し、多数の特許も獲得しております。
今後も継続して台湾国内外の研究機構と提携しつつ、高度なエピタキシャル関連技術を研究開発していきます。又
エピタキシャルの生産設備を共同開発し、エピタキシャルの技術の応用を積極的に拡大して我が国台湾の材料科学技術を掘り下げていきます